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陶瓷膜联用工艺除氟——无活性氧化铝再生

发布时间:2026-05-18

氟在半导体和光伏新能源等行业大量用作蚀刻剂,主要来源为氢氟酸(HF)与缓冲氢氟酸(BHF)。过量游离氟对生物有毒,必须从工业废水中去除。加拿大Ovivo公司开发了一种陶瓷膜联用工艺处理含氟水(尤其含氢氟酸HF废水)的方法。在酸性pH≤4条件下,使碳酸钙与废水中氟离子反应生成氟化钙(CaF₂)颗粒;随后通过陶瓷膜过滤将氟化钙颗粒与处理后废水分离。

一、现有除氟技术:

  • 氟化钙沉淀法(方解石法/结晶法)
  • 最常用:石灰沉淀+混凝/絮凝+沉淀工艺
  • 氧化铝吸附、离子交换

二、传统工艺缺点:

  • 生成的CaF₂为微细粉末,需投加混凝剂
  • 系统占地面积大
  • 含杂质多,CaF₂污泥资源化价值低
  • 药剂消耗高

因此需要一种除氟稳定、低成本、占地小、药剂能耗低的改进工艺。

陶瓷膜联用的除氟工艺核心是在pH≤4的酸性条件下,将碳酸钙(CaCO₃)与水中氟离子(尤其HF)反应,生成氟化钙(CaF₂)颗粒。

三、关键原理

  • 碳酸钙颗粒作为晶种,CaF₂在其表面生长

  • 颗粒内部保留碳酸钙核,形成大粒径CaF₂颗粒,易沉降

  • 未在晶种上生长的细小CaF₂颗粒由膜截留

  • 无需混凝剂、絮凝剂

四、工艺条件

  1. pH控制

  • 反应最佳pH:≤4,优选≤3.5。
  • 反应过程pH会上升至弱酸性(约5-7)。
  1. 碳酸钙投加
  • 形态:粉末或浆料
  • 粉末粒径:D90≤1mm,优选≤0.1mm
  • 投加过量:CaCO₃/氟质量比>2
  1. 反应时间
  • 室温、搅拌条件下:5-60分钟,优选20-40分钟。


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